光刻機品牌眾多，根據技術路線不同可分為以下幾類:
1，高端投影光刻機分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在七納米到幾微米之間。高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上有65438+2億美元的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學產業之花，其制造難度之大，全球只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要是荷蘭的阿斯麥(鏡頭來自德國)、日本的尼康(高端光刻機，英特爾曾經從它手裏買過尼康)和日本的佳能。
2.位於中國上海的SMEE公司開發了具有自主知識產權的投影式中檔光刻機，形成了產品系列，初步實現了國內外銷售。R&D和其他系列產品的生產正在進行中。
3.用於生產線和R&D的低端光刻機是接近式和接觸式光刻機，分辨率通常在幾微米以上。主要有德國sus，美國MYCRO NXQ4006，中國品牌。
光刻機的主要性能指標有:支持襯底的尺寸範圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
1，分辨率是對光刻所能達到的最細線精度的描述。光刻的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統、光刻膠和工藝的限制。
2.對準精度是指多層曝光時層間圖案的定位精度。
3.曝光方式分為接觸接近、投影和直寫。
4.曝光光源的波長分為紫外、深紫外和極紫外區，光源包括汞燈和準分子激光器。