1，阿斯麥(阿斯麥):
阿斯麥是全球最大的光刻機制造商，總部位於荷蘭。他們的光刻機產品在芯片制造領域占據主導地位，為全球主要半導體制造商提供先進的光刻技術。
2.尼康:
尼康是日本知名的光刻機制造商，他們的光刻機在先進制造工藝領域發揮著重要作用。尼康的光刻機產品具有出色的分辨率和穩定性，適合各種芯片制造要求。
3.佳能:
佳能是另壹家著名的日本光刻機制造商。他們的產品在低功耗、高亮度芯片制造領域表現突出，佳能的光刻機精度高，可靠性高。
4.Ultratech(要求優秀):
Ultratech是壹家位於美國的掩模對準器制造商，專註於先進的制造工藝和先進的光刻技術。他們的產品廣泛應用於微納加工和高分辨率領域。
5.蘇斯中晶科技:
SUSS Microtechnology是壹家總部位於德國的半導體設備制造商，提供掩模對準器、接觸/投影掩模對準、微納加工和檢測設備。蘇希微科技在MEMS(微機電系統)和先進封裝領域擁有專業的技術和豐富的經驗。
6.日本電子光學研究所:
JEOL是壹家總部位於日本的科學儀器制造商。他們的光刻機產品廣泛應用於微電子、光電子和光通信領域。JEOL的光刻機具有高分辨率和高速度的特點。
7.Vistec:
Westk是壹家德國公司，專註於電子束光刻技術的研發。他們的光刻機產品提供高分辨率和高精度的工藝解決方案，適用於半導體和光學器件制造行業。
8.拓普康(東寶):
東寶是壹家總部位於日本的電子測量設備和掩模光刻機制造商，其掩模光刻機廣泛應用於半導體和顯示器制造。東寶光刻機具有高分辨率和高穩定性的特點。
9.日立高新技術公司:
日立高新是壹家總部位於日本的高科技公司。他們的光刻機產品廣泛應用於半導體和平板顯示器制造領域。日立高新光刻機精度高，效率高。
10、庫利奇&索法:
Kulicke&Soffa是壹家總部位於美國的半導體設備制造商，他們的光刻機產品廣泛應用於封裝和組裝領域。Kulicke&Soffa的掩模對準器具有高精度和高可靠性的特點。
以上內容參考:百度百科-荷蘭阿斯麥公司
以上內容參考:百度百科-尼康